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背光不良申请日期为2025年05月

字号+作者:万紫千红网来源:时尚2025-11-12 09:30:14我要评论(0)

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本文源自:金融界

金融界2025年7月19日消息,华星后导国家知识产权局信息显示 ,光电光模武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“背光模组及显示终端”的申请示终视窗专利 ,公开号CN120335200A ,背光不良申请日期为2025年05月 。模组暗区突围辅助发卡网

背光不良申请日期为2025年05月

专利摘要显示 ,及显暗区科技辅助发卡网本申请涉及一种背光模组及显示终端。端专背光模组包括背板和光学膜片;背板设有容纳腔 ,利防容纳腔内设置有限位结构  ,止挂致背组侧板背离底板的耳进一侧表面设置有限位槽;光学膜片包括主体部 ,主体部设置于容纳腔内 ,入容主体部包括挂耳,纳腔挂耳被配置为配合限位结构以定位光学膜片;光学膜片包括连接于挂耳的区出暗区突围外挂透视引耳部,引耳部设置于限位槽内 。现暗现象光学膜片的华星后导引耳部设置于限位槽内  ,且限位槽限制引耳部朝向靠近容纳腔的一侧移动 ,引耳部与挂耳连接,暗区突围外挂网站入口当挂耳在机械振动冲击过程中断裂时 ,本尊科技引耳部可以限制挂耳移动到容纳腔内 ,防止挂耳进入容纳腔后导致背光模组的视窗区出现暗影等不良现象 。

天眼查资料显示,暗区突围免费透视武汉华星光电技术有限公司 ,成立于2014年 ,位于武汉市,是暗区突围挂 锁头 透视一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币。通过天眼查大数据分析  ,武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目654次,财产线索方面有商标信息4条 ,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可263个。

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